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东芝推出第三代650V SiC肖特基势垒二极管,助力提高工业设备效率

作者:光耦网 发布时间:2023/7/24 来源:光耦网 浏览量:160 相关关键词: 最新一代 碳化硅肖特基二极管

中国上海——东芝电子元件及存储装置株式会社(东芝)宣布,推出最新一代用于工业设备的碳化硅(SiC)肖特基势垒二极管(SBD——“TRSxxx65H系列

首批12款产品(均为650V)中有7款产品采用TO-220-2L封装,其余5款采用DFN8×8封装,开始支持批量出货。

新产品在第3SiC SBD芯片中使用了一种新金属,优化了第2代产品的结势垒肖特基(JBS)结构。它们实现业界领先的1.2V(典型值)低正向电压,比上一代的1.45V(典型值)低17%。此外,新产品还在正向电压与总电容电荷之间以及正向电压与反向电流之间取得了平衡,从而在降低了功耗的同时提高了设备效率。

应用

关电源

电动汽车充电桩

光伏逆变器

特性:

业界领先的低正向电压:VF1.2V(典型值)(IFIF(DC)

低反向流:TRS6E65H  IR1.1μA(典型值)(VR650V

低总电容电荷:TRS6E65H QC17nC(典型值)(VR400Vf1MHz

主要规格:


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